檢測原理

探傷機(jī)陣列渦流檢測原理陣列渦流技術(shù)與傳統(tǒng)渦流技術(shù)具有相同的檢測將通人交變電流的激勵線圈放置在導(dǎo)電部件一時，導(dǎo)體表面會產(chǎn)生渦流，導(dǎo)體中的缺陷會干擾渦流路徑，這種干擾可以通過檢測線圈來測量，進(jìn)而判磁粉探傷機(jī)

斷出缺陷的情況”。陣列渦流探頭具有多個獨立工作的線圈,這些線圈按照特殊的方式排布，激勵線圈和檢測線圈之間形成兩種方向相互垂直的電磁場傳遞方式，可減少因缺陷方向造成的漏檢,并且可實現(xiàn)一次性大面積掃查,得到C掃描成像結(jié)果。為了保

證激勵磁場和感應(yīng)磁場之間不相互干擾，陣列渦流技術(shù)通常采用多路切換技術(shù)對感應(yīng)線圈進(jìn)行分時分批激勵。陣列渦流檢測的結(jié)果通常以C掃描顯示為主,同時生成阻抗圖和帶狀圖,通過不同的顏色顯示來判斷缺陷的情況[3]。

1.2全聚焦相控陣檢測原理 

全聚焦相控陣檢測過程主要包括兩個部分:全

矩陣數(shù)據(jù)采集(FMC)和全聚焦成像算法。

全矩陣數(shù)據(jù)采集原理為假定相控陣探頭具有n

個陣元，激發(fā)第一個陣 元，所有陣元接收回波信號并

儲存,按照此規(guī)律，依次激發(fā)所有陣元，最后采集得

到nXn個時域超聲回波信號，因為被采集數(shù)據(jù)存

儲在一個n行n列的矩陣中，所以稱之為全矩陣數(shù)試驗采用64 晶片，頻據(jù)采集[4]。

全聚焦成像算法原理為針對所檢區(qū)域設(shè)定

個自定義成像區(qū),得到任意一- 點到任意一對品片

組合的聲程，再以成像區(qū)中的聲程數(shù)據(jù)為依據(jù)，對

FMC數(shù)據(jù)進(jìn)行相干疊加處理,獲得表征該點信息

的幅值。采用該算法得到自定義成像區(qū)內(nèi)每點的

成像，最終達(dá)到各點能量高度聚焦的效果”。